第203章 年后，光刻机团队抵达！（2/2）

光刻机项目就放在“北辰精密”。

光刻机也精密设备嘛！

而且，“北辰精密”这边许多技术和设备，光刻机上是用得上，能更快、更高效地为光刻机团队提供解决方案。

“目前，我们已经购入多台0.25u光刻机……其中部分放在晶圆厂使用！”

“会拿两台出来做研究。”

“我先说一下短期目标和长期目标……”

“短期目标，将目前光刻机使用的i-le的365n光源，升级成KrF（氟化氪）248n光源、或者ArF（氟化氩）193n光源！”

“我个人倾向于后者，一步到位，难度并不会很高！”

目前，0.25u的光刻机……或者之前使用的光刻机，基本都是365n的i-le（汞灯谱线）。

波长365n，精度不够，0.25u工艺基本已经是极限。

后面0.25u以上更先进的工艺，就需要全新的光源。

KrF（氟化氪）是248n的光源，精度比365ni-le（汞灯谱线）更高，1988年由尼康推出首款商用KrF光刻机。

依旧是十几二十年前的技术了。

就这……国内也还没用上。

不是做不出来，而是用不上……光刻机没有达到这个水平。

而ArF（氟化氩）准分子激光，它是193纳米的波长，是目前全球最顶尖的技术。

去年用Gigaphoton推出首款量产的ArF激光器。

前世，芯片和光刻机被封锁有多严重？？

盘点过光刻机的韩文韬，当然知道ArF光源的光刻机更先进，是90n工艺以及更先进工艺的必须技术。

能一直用在7n！

所以他推荐后者：ArF光源。

当然，这是短期项目。

“长期项目，我们要研究的是——EUV极紫外光源！”

EUV极紫外光源。

这是下一代光刻机的研发方向，是全世界基本已经摸索出来的方向。

但是难度……非常高！

这需要人为去制造一种自然界不存在的‘光’，这种光还极易被任何物质吸收。

即便是空气！

这就导致EUV光源，不能使用透镜，会被透镜吸收耗尽。

只能依靠布拉格反射镜。

这种反射镜的镜面精度，需达原子级别。

造出这种‘光’其实还是能做到的，难的：物镜系统。

还有更难的是：用这种光来制造芯片。

超高精度的芯片。

在晶圆厂，每小时需要处理100片以上晶圆。

要将EUV光源用在这上面，功率需要达到200W以上，而且需要稳定、高效、持续。

激光是从电能转换来的。

将电能通过激光器，转换为激光，效率大约在10%-20%。

看似不错，EUV要求只是区区200W？

那不是轻轻松松吗？

实际上，要维持一台输出功率200W以上的EUV光刻机：稳定、高效、持续运行。

驱动激光的功率需要约20kW。

也就是：从电能转化为激光，最终到达晶圆的EUV光，转换效率仅为0.02% ！

转化过程怎么转化呢？

EUV光源是需要‘人造’的。

那就是用高能激光，以每秒5万次（50kHz）的频率，精准轰击直径仅约30微米（比头发丝还细）的锡液滴，将其转化为等离子体并辐射出EUV光。

再将产生的EUV光，通过十几面反射率仅约70%的布拉格反射镜进行反射、控制、最终进行晶圆光刻。

就这其中的问题：

大功率激光驱动。

激光器转化效率。

如何控制高能激光，以每秒5万次（50kHz）的频率，精准轰击直径仅约30微米（比头发丝还细）的锡液滴？

如何打磨出产生平面精度，比头发丝直径还要细几百万分之一，反射率70%的布拉格反射镜？

当高能激光，每秒5万次（50kHz）的频率轰击锡滴，转化为等离子体并辐射出EUV光，那产生的锡碎屑，会污染物镜和精密光学部件！

如何避免？如何解决这个问题？如何清理这些碎屑？

同时，数十千瓦的激光能量，不断轰击微小的锡滴上，会产生极端的高温，对物镜、光学部件、精密结构造成巨大影响。

这是EUV光刻机……金属等材料，高温下是会发生变形的。

哪怕只是1纳米、0.1纳米……影响都是巨大的。

这些问题，还只是光源系统、和部分物镜系统的问题。

还有工作台、还有整个光刻机各方面的问题。

EUV光刻机？

沪上光电所、科学院光电所、长光所这边过来的团队，脑海中冒出一个：10年？还是20年？EUV光刻机能解决吗？！

这“北辰精密”也不是一家骗子公司啊？

一来就整这种大项目？！